Основы процессов получения легированных оксидных пленок методами золь-гель технологии и анодного окисления. Л. П. Милешко

Основы процессов получения легированных оксидных пленок методами золь-гель технологии и анодного окисления - Л. П. Милешко

Междисциплинарное учебное пособие, предназначенное для факультативного изучения студентами магистратуры, обучающимися по направлениям подготовки «Техносферная безопасность», «Нанотехнологии и микросистемная техника» и «Конструирование и технология электронных средств». Рассмотрены основные закономерности образования, свойства и примеры использования золь-гель‒пленок легированных лантаноидами на планарных подложках и в мезоскопических порах пористого кремния, пористого анодного оксида алюминия и синтетических опалов, а также легированных фосфором или бором анодных оксидных пленок кремния, карбида кремния, нитрида кремния и легированных хлором ‒ меди (I).