Материалы и элементы электронной техники. Расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев - Владимир Астахов
| Автор: | Владимир Астахов |
| Издательство: | МИСиС |
| Серия: | |
| Жанр произведения: | Техническая литература |
| Год издания: | 2007 |
| isbn: |
В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001.