Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра - Наталья Макушина
Автор: | Наталья Макушина |
Издательство: | |
Серия: | |
Жанр произведения: | Учебная литература |
Год издания: | 2006 |
isbn: | 5-7038-2926-7 |
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.